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针对膜厚的均匀性对非晶硅薄膜透射光谱(400～1000nm)的影响问题，通过模拟计算分析在不同膜厚、厚度(线性)变化率和照射面积条件下，厚度均匀性对谱线的影响，结果表明这种影响主要发生在薄膜的无吸收区和弱吸收区，表现为峰一峰值变小和振荡周期畸变，减小照射面积可有效地降低这种影响。
非晶硅薄膜厚度均匀性对其透射光谱的影响
【摘 要】
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针对膜厚的均匀性对非晶硅薄膜透射光谱(400～1000nm)的影响问题，通过模拟计算分析在不同膜厚、厚度(线性)变化率和照射面积条件下，厚度均匀性对谱线的影响，结果表明这种影响主要
【机 构】
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汕头大学物理系
【出 处】
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汕头大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2004年1期
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