【摘 要】
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提出了一种利用氧化钛薄膜对金属铜薄膜表面等离子体共振特性调制的想法。实验中首先使用电子束蒸发制备一批同等厚度的氧化钛薄膜,再利用磁控溅射方法在氧化钛薄膜上沉积厚
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（61378060,61205156）,国家重大科学仪器设备开发专项项目（2012YQ170004）,国家高技术研究发展计划（863计划）项目（2013AA030602）和上海市自然科学基金项目（13ZR1427800）资助
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提出了一种利用氧化钛薄膜对金属铜薄膜表面等离子体共振特性调制的想法。实验中首先使用电子束蒸发制备一批同等厚度的氧化钛薄膜,再利用磁控溅射方法在氧化钛薄膜上沉积厚度为5~80 nm不等的金属铜薄膜。测试结果表明,氧化钛膜层对不同厚度的金属铜薄膜表面等离子体共振增强具有不同调制效果,金属铜薄膜厚度小于20 m时,底层的氧化钛薄膜对Cu薄膜表面等离子体共振增强效果显著,且随着金属Xu膜层厚度增加表面等离子体共振峰发生蓝移,而当金属铜膜层的厚度超过20nm时,共振增强效果因金属Cu薄膜消光能力的上升而开始减弱。
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