SiO2薄膜内部短程有序微结构研究

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【摘要】

：

SiO2薄膜是重要的低折射率材料之一,针对离子束溅射(IBS)和电子束蒸发(EB)的SiO2薄膜,采用红外光谱反演技术获得在400—1500 cm 1波数内的介电常数,通过对介电能损函数的分析

【作者】

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刘华松季一勤姜玉刚王利栓冷健孙鹏庄克文

【机构】

：

天津津航技术物理研究所,天津市薄膜光学重点实验室;

【出处】

：

物理学报

【发表日期】

：

2013年18期

【关键词】

：

SiO2薄膜离子束溅射电子束蒸发短程有序

【基金项目】

：

国家自然科学基金重点项目(批准号:61235011);国家重大科学仪器专项子项目(批准号:2012YQ04016405);天津市自然科学基金(批准号:13JCYBJC17300);天津市青年自然科学基金(批准号:12JCQNIC01200)资助的课题~~

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SiO2薄膜是重要的低折射率材料之一,针对离子束溅射(IBS)和电子束蒸发(EB)的SiO2薄膜,采用红外光谱反演技术获得在400—1500 cm 1波数内的介电常数,通过对介电能损函数的分析获得了两种薄膜在横向和纵向光学振动模式下的振动频率和Si—O—Si键角.研究结果表明,在EB SiO2薄膜短程有序范围内,SiO4的连接方式主要是类柯石英结构、3-平面折叠环和热液石英结构的SiO4连接方式;在IBS SiO2薄膜短程有序范围内,SiO4的连接方式复杂主要是类柯石英结构、3-平面折叠环、4-平面折叠环结构和类热液石英结构.

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