常压下MOCVD法制备Al2O3薄膜工艺的研究

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在常压条件下,采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在Fe-Cr-Ni合金基片上沉积Al2O3薄膜。以仲丁醇铝(ASB)为原料,纯氮为载气,研究基片温度、ASB温度和载气流量对沉积速率的影响。采用EDS、SEM技术对Al2O3薄膜的组成进行分析。研究表明,ABS温度为125℃的工艺条件下,薄膜厚度为500μm,结合强度是梯度涂层(NiAl和Al2O3的梯度沉积)的结合强度的两倍。
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