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综述了掺铝氧化锌（AzO）薄膜制备方法与光电特性，重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响，并指出目前AZO薄膜的研究关键以及所面临的挑战，展望了未来的研究方向。
AZO薄膜制备工艺及其性能研究
【摘 要】
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综述了掺铝氧化锌（AzO）薄膜制备方法与光电特性，重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能
【机 构】
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西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,新南威尔士大学材料科学与工程学院
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2012年1期
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