【摘 要】
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用直流磁控溅射工艺,在NdFeB磁体表面镀Al薄膜,并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理,研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的影响.结果表明:NdFeB镀Al薄膜磁体经650℃,1
【机 构】
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东北大学机械工程与自动化学院,爱发科中北真空(沈阳)有限公司,沈阳中北通磁科技有限公司
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用直流磁控溅射工艺,在NdFeB磁体表面镀Al薄膜,并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理,研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的影响.结果表明:NdFeB镀Al薄膜磁体经650℃,10min热处理后,综合性能最佳,Al膜层与NdFeB磁体在界面产生冶金结合,增强了界面结合力,又保持了Al膜层的完整性、连续性和良好耐蚀性.通过对样品微组织的观察发现,当热处理温度高于650℃时,Al膜层与基体之间产生互扩散,形成新的RFeAlB相,随着温度继续升高,新相的长大,破坏了Al膜层的完整性和连续性,产生许多微缺陷和裂纹,耐蚀性降低.
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