PLD法制备高介电调谐率的纳米晶BZT薄膜

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shmilyxin2009
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用脉冲激光沉积工艺制备了Ba(ZrxTi1-x(x=0.25,0.30简称BZT25和BZT30)介电薄膜。在650℃原位退火10min,薄膜为(111)取向柱状生长的晶粒,取向度分别为0.45和0.75。BZT25和BZT30薄膜的平均晶粒尺寸分别为50nm和60nm.在室温、1MHz和3×10^5V/cm条件下,BZT25的最大εr和调谐率分别达到563和65%,BZT30的最大εr和调谐率分别达到441和57%。薄膜为(111)取向生长,主要是基于薄膜与底电极Pt界面层立方相结构Pt3Ti
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