【摘 要】
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本文对新型薄膜磁头材料ＦｅＳｉＡｌ合金进行了研究，发现氩压和衬底温度直接影响着膜的结构和磁学性能。当氩压在０．１Ｐａ左右，衬底温度高于２５０℃时，淀积薄膜具有良好的软磁性能，满足ＭＩＧ磁头材料要求。
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本文对新型薄膜磁头材料ＦｅＳｉＡｌ合金进行了研究，发现氩压和衬底温度直接影响着膜的结构和磁学性能。当氩压在０．１Ｐａ左右，衬底温度高于２５０℃时，淀积薄膜具有良好的软磁性能，满足ＭＩＧ磁头材料要求。
In this paper, a new thin film magnetic head material FeSiAl alloy was studied and found that argon pressure and substrate temperature directly affect the structure and magnetic properties of the film. When the argon pressure is about 0.1Pa, the substrate temperature is higher than 250 ℃, the deposited film has good soft magnetic properties to meet the MIG head material requirements.
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