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讨论了磁控溅射过程中电子在非均匀电磁场中的运动规律，分析了靶材非均匀溅射及磁控溅射基片温升低、溅射速率高的原因．
磁控溅射镀膜过程中非均匀磁场中电子的运动
【摘 要】
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讨论了磁控溅射过程中电子在非均匀电磁场中的运动规律，分析了靶材非均匀溅射及磁控溅射基片温升低、溅射速率高的原因．
【机 构】
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清华大学物理系
【出 处】
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物理实验
【发表日期】
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2008年11期
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