非掺杂LEC砷化镓晶体中砷沉淀和位错关联性质

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mini_fc
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
通过使用激光散射扫描的方法,定性地研究非掺杂半绝缘LEC砷化镓(100)方向生产的晶体中砷沉淀在晶体径向截面分布,得到了在一种特定热场中生长的晶体中存在4个砷沉淀的聚集中心结论,而这4个聚集中心却正好是晶体上位错密度相对较低的区域.作者主要研究了这种分布和位错之间的关系,分析其形成过程,并得出在晶体生长及后期退火过程中,位错在晶体中起到了输送砷原子的管道作用,加速了砷原子在晶体中的扩散过程,导致网格位错密集区的大直径砷沉淀的密度相对位错稀疏区和位错线区的砷沉淀密度较低.
其他文献
混合式教学已成为教育教学改革新的着力点。混合式教学融合了传统课堂面对面教学与线上网络学习的优势,为学生提供了自主泛在学习的环境,有效提高了学生的学习能力和教学的效
语文是一门基础学科,同时也开展人文教育的重要平台。在小学语文学科中包含了很多人文知识,小学语文教师应该充分发挥小学语文学科优势,奠定小学生人文基础,培养小学生人文修
设计了工作在2GHz,差分控制的单片LC压控振荡器,并利用0.18μmCMOS工艺实现.利用模拟和数字(4位二进制开关电容阵列)调频技术,压控振荡器的调频范围达到16.15%(1.8998~2.2335GHz).在2.158GHz