沉积温度对ZrO2薄膜相结构和透射率的影响

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：shqcd992

【摘要】

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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2薄膜.薄膜厚度80 nm～100 nm.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜

【作者】

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刘建华徐可为

【机构】

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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安711049

【出处】

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真空科学与技术学报

【发表日期】

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2004年5期

【关键词】

：

沉积温度 ZRO2薄膜透射率薄膜厚度单晶硅片相结构反应磁控溅射非晶相晶粒尺寸 X射线衍射仪 ZrO2 thin film Magnetron sp

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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2薄膜.薄膜厚度80 nm～100 nm.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了沉积温度对薄膜相结构和O/Zr、透射率的影响.研究发现,沉积温度升高,非晶相减少,结晶相增多;晶粒尺寸增大;沉积温度为370 ℃,透射率明显下降.

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