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厚膜混合集成电路常见工艺缺陷及其消除方法
厚膜混合集成电路常见工艺缺陷及其消除方法
来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kwannew
【摘 要】
:
除设计和材料外,工艺和操作对厚膜混合集成电路的质量和性能也有较大的影响。分析了厚膜混合集成电路生产过程中一些常见的工艺缺陷,如线条变形、起泡、阻值不稳、元件受损、锡
【作 者】
:
王劲松
【机 构】
:
国营第八九五厂厚膜分厂
【出 处】
:
电子元件与材料
【发表日期】
:
1998年5期
【关键词】
:
厚膜
混合集成电路
工艺缺陷
thick film
HIC's
technology
defects
screen printing
laser
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除设计和材料外,工艺和操作对厚膜混合集成电路的质量和性能也有较大的影响。分析了厚膜混合集成电路生产过程中一些常见的工艺缺陷,如线条变形、起泡、阻值不稳、元件受损、锡球等的产生原因,并提出了相应的消除方法 。
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