IrO2/ZnO薄膜接触结构的制备及电学特性研究

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在氧化锌器件的应用中,高质量的金属/ZnO接触的制备是至关重要的问题。目前,在金属/ZnO接触的研究中,充当电极角色的多为不具有透明性的金属材料,使得氧化锌材料在光电子器件中的应用受到一定的限制。IrO2是一种既透明又导电的金属氧化物,具有较低的电阻率和较好的化学稳定性,其薄膜已被用作底电极和防热扩散层等。因此文中采用脉冲激光沉积方法(PLD)制备了IrO2/ZnO薄膜接触结构,用小角X射线衍射(XRD)对其进行表征,并测量该结构的电学特性。结果表明实验得到了生长良好的IrO2/ZnO薄膜接触结构,室温下
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