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使用软件模拟的方法对NMOS和PMOS的单粒子翻转（SEU）特性进行仿真,通过在阱内外碰撞的两种情况下对小尺寸NMOS和PMOS的SEU敏感性进行对比可知,对于深亚微米阶段相同工艺的器件,在阱外碰撞时,NMOS一定比PMOS对SEU敏感;但对于阱内碰撞,NMOS和PMOS对SEU的敏感性要视具体情况而定。