硅烷偶联剂表面接枝包覆纳米SiO2的研究

来源 :高分子材料科学与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jingkewang

【摘要】

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采用硅烷偶联剂γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS)处理纳米SiO2,并用FT-IR、ζ-电势、TG、TEM对纳米SiO2的处理效果进行了表征.结果表明,纳米SiO2的接枝率随偶联剂MPS

【作者】

：

王美英佘庆彦刘国栋瞿雄伟

【机构】

：

河北工业大学

【出处】

：

高分子材料科学与工程

【发表日期】

：

2005年6期

【关键词】

：

MPS 纳米SIO2 表面处理接枝包覆 MPS nano-silica surface treatment grafting and coating

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采用硅烷偶联剂γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS)处理纳米SiO2,并用FT-IR、ζ-电势、TG、TEM对纳米SiO2的处理效果进行了表征.结果表明,纳米SiO2的接枝率随偶联剂MPS加入量的增加而增加;当pH值为4,MPS/SiO2为50%,反应温度为110 ℃、时间为90 min时,纳米SiO2表面MPS的接枝包覆率达到35.7%;此时纳米SiO2粒子在乳液中的分散更为均匀.

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