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利用波长为351nml的半导体抽运全固态脉冲激光器，采用双光束干涉方法，对金属镍板表面直接刻蚀形成微光栅结构的方法进行了实验研究．通过改变激光功率和激光脉冲数等实验参量，研究其对制备的微光栅结构槽形和一级衍射效率的影响．利用扫描电镜和原子力显微镜测量光栅槽形，测得光栅周期为1．25μm，光栅槽深为10～280nm，并测量了相应的衍射效率．发现当采用激光单脉冲能量为1．2mJ，采用10个脉冲加工时，测得槽深为280nm，一级衍射效率最高（18％）的微光栅结构．利用光栅的衍射理论对衍射效率变化进行了分析．该研