论文部分内容阅读
采用包渗法在Mo基体表面制备了B强化的MoSi2涂层，研究了涂层的显微结构、元素分布、相组成以及静态高温抗氧化性能。结果表明：涂层与基体之间通过扩散形成牢固的冶金结合，涂层整体厚度为80～120μm，共由三层组成。涂层中B元素沿晶界扩散富集引起的晶格畸变，使得Si在MoSi2中的扩散系数减小，导致B强化MoSi2涂层中间层厚度相对纯MoSi2涂层中间层厚度减小，但涂层整体厚度增大。经1200℃静态氧化2h后，B强化的Mo—Si2涂层失重为0．6mg／cm^2，大大小于纯MoSi2涂层失重量（1．3mg／c