论文部分内容阅读
针对1 080 nm连续激光光学系统中反射镜的需求, 设计了低损耗高反膜膜系, 优化了膜系中的电场分布, 对高反膜元件工艺体系进行了控制。采用离子束溅射工艺, 成功地在超光滑石英玻璃基底上研制出了Ta2O5/SiO2体系高反膜, 对所获得的高反膜元件表面粗糙度、光学性能及抗激光损伤能力进行了讨论与分析。结果表明: 研制的低损耗1 080 nm高功率激光高反膜元件表面粗糙度达到0.115 nm, 在1 064 nm处吸收和散射损耗之和约17 ppm, 可承受500 kW/cm2的激光辐照而不损伤, 工艺技术应用前景良好。