退火温度对RF磁控溅射ZnO薄膜力学性能的影响

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ldw521
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采用X射线衍射分析(XRD),原子力显微镜(AFM)及纳米压痕技术测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能。薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理。XRD分析显示随着退火温度的上升,薄膜的晶粒尺寸逐步增大,且C轴取向显著增强。压痕测试结果表明,由于尺寸效应的影响,硬度随退火温度的变化有明显的趋势,从2.5GPa(常温下)逐步增加到5.5GPa(450℃),随着温度的进一步上升,硬度值又逐步下降到4.5GPa(650℃)。弹性模量整体随退火温度的变化并不呈现明显的规律
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