低压化学蒸汽淀积(LPCVD)薄膜技术的计算机模拟通式

来源 :中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学) | 被引量 : 0次 | 上传用户:c543217896chenjia
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本文在推导出LPCVD多晶硅计算机模拟算式的基础上,进一步又推导了LPCVD的计算机模拟通式,用于LPCVD二氧化硅、氮化硅的模拟计算中,得到较好的结果。这种理论模拟方法在LPCVD领域中具有一定的普遍性。从理论计算可得出一些新的规律,对掌握和改进LPCVD技术,以及对专用设备的设计都将有益。 Based on the derivation of LPCVD polysilicon computer simulation formulas, this paper further derives the LPCVD computer simulation general formula, which is used in the simulation calculation of LPCVD silicon dioxide and silicon nitride, and get better results. This theoretical simulation method has some universality in the field of LPCVD. From the theoretical calculations can be drawn some new laws, to master and improve LPCVD technology, as well as the design of special equipment will benefit.
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