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通过吸附试验，Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）和俄歇电子能谱（ＡＥＳ）、浮选试验、系统地研究了糊精在萤石和方解石表面作用行为，结果发现，方解石经糊精作用前后ＣａＬＭＭ俄歇参数变化值为０．８０ｅＶ，变化显著，这说明糊精与方解石表面作用为化学键合；而萤石经糊精处理前后ＣａＬＭＭ俄歇参数变化值为－０．２０ｅＶ，变化不明显，说明糊精与萤石表面化学作用很弱，更接近物理作用－氢键作用；浮选试验结果证实了测试结果可