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在一个等离子体化学气相沉积(PCVD)系统中,用射频辉光放电分解纯硅烷,通过控制和选择工艺条件,可以制备速率大于1.0nm/s,光敏性大于10~5的优质非晶硅氢合金薄膜。
高速沉积非晶硅氢合金薄膜的研究
【摘 要】
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在一个等离子体化学气相沉积(PCVD)系统中,用射频辉光放电分解纯硅烷,通过控制和选择工艺条件,可以制备速率大于1.0nm/s,光敏性大于10~5的优质非晶硅氢合金薄膜。
【机 构】
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汕头大学物理系,汕头大学物理系汕头515063本刊通讯编委,汕头515063
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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1992年5期
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