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本文就化学机械抛光 （CMP） 用抛光液中CeO2磨料相关技术的全球专利申请及中国专利申请进行了分析, 探讨了CeO2磨料在全球及中国的申请量趋势、 全球及在华不同国家申请量比例和重点申请人的申请趋势及排名等, 以期为国内研究者提供有价值的专利信息参考.
化学机械抛光（CMP）用抛光液中CeO2磨料专利申请趋势分析
【摘 要】
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本文就化学机械抛光 （CMP） 用抛光液中CeO2磨料相关技术的全球专利申请及中国专利申请进行了分析, 探讨了CeO2磨料在全球及中国的申请量趋势、 全球及在华不同国家申请量比例和
【机 构】
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国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心
【出 处】
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河南科技
【发表日期】
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2018年7期
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