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回顾中国半导体设备的发展历史，可以说是“起步早、门类全、发展曲折”。所谓起步早，指的是从上世纪50年代中后期开始研制锗工艺半导体设备，60年代初中期自行制造我国第一条1Gz锗半导体三极管单机自动化生产线，60年代中期即研制了Φ35mm圆片、10μm线宽水平的硅平面工艺半导体设备；70年代末至80年代，我国就已研制了电子束曝光机、激光冗余修正仪、高能离子注入机、离子束外延设备、分子束外延设备、分步重复光刻机、超纯水处理系统等一批高水平的半导体设备。所谓门类全指的是从应用角度来讲，我国半导体设备涉及到集成电路