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对采用电子束反应蒸镀方法在低温下在硅(001)衬底上外延生长的ZnO薄膜的表面构像进行了原子力显微镜(AFM)观察,分析研究不同的衬底温度对薄膜表面形貌及结构特性的影响.在250℃衬底温度下获得的ZnO薄膜,膜表面平整,结构致密,表面平均不平整度小于3nm,说明在该衬底温度下获得的ZnO薄膜是高透明度、高质量、高度取向的单晶薄膜.