【摘 要】
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化学气相沉积法(CVD)制备金刚石薄膜的出现,使人们大规模利用金刚石优异性质的愿望得以实现.但是,金刚石薄膜表面sp3碳构造的高稳定性导致其表面可再造性能差,无法满足制备各
【机 构】
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中国科学院理化技术研究所; 中国科学院理化技术研究所 北京100101; 北京100101;
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化学气相沉积法(CVD)制备金刚石薄膜的出现,使人们大规模利用金刚石优异性质的愿望得以实现.但是,金刚石薄膜表面sp3碳构造的高稳定性导致其表面可再造性能差,无法满足制备各种功能性表面的需要.本文从化学修饰的角度,概括和总结了金刚石薄膜表面的功能化修饰和分子微结构设计等问题.讨论了金刚石表面的活性官能团导入,金刚石表面修饰有机(生物)分子,以及通过金属、金属氧化物修饰制备具有良好催化活性的金刚石表面的制备方法,并对金刚石薄膜在不同领域内的应用前景作了展望.
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