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以正硅酸乙酯（ Ｔ Ｅ Ｏ Ｓ）为有机硅源，采用溶胶凝胶技术，通过调节溶胶的ｐ Ｈ 和掺入有机添加剂，对 Ｓｉ Ｏ２ 溶胶生长过程进行结构裁剪，控制 Ｓｉ Ｏ２ 纳米颗粒尺度，制备出低折射率（１１５～１．１８） Ｓｉ Ｏ２ 光学增透薄膜。分别采用椭偏仪、分光光度计、扫描和透射电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究。研究结果表明：改变 Ｓｉ Ｏ２ 溶胶ｐ Ｈ 可有效抑制颗粒生长，且保持原有的微结构；掺入有机偶联添加剂能使颗粒迅速增大。