本文在不降低La₂O₃/Cu合金导电性的情况下，采用离子注入手段提高其强度及耐磨性。采用金属蒸气真空弧离子源（MEVVA）将Zr离子注入铜合金进行表面改性，注入能量为80keV，注入剂量分别为2¹0×1017Zr+/cm²。利用X射线光电子能谱（XPS）分析离子注入层中各元素的浓度-深度分布以及各深度处Cu₂p、Zr₃d和O1s的化学态；使用透射电镜观察新相的微观结构；采用纳米硬度计测量Zr离子注入后铜合金表面硬度随深度的变化；利用物理测试系统进行电导率测试；使用摩擦试验机研究Zr离子注入前后铜合金材料的耐磨性；采用扫描电子显微镜（SEM）分析样品表面磨痕形貌。分析结果表明：锆离子注入铜合金后，在基体中形成了Zr²Cu、Cu₂O和ZrO₂等新相，其中Zr²Cu新相弥散分布在基体中，直径大约在10nm左右。随着注入深度的增加，ZrO₂、Cu₂O的含量逐渐减少；Zr²Cu的含量随着注入剂量的增加而增加，Zr²Cu含量最大的地方对应于离子注入层中锆含量最大处。当注入剂量达到1×10¹⁸Zr+/cm²时，在15nm深度处，Zr²Cu含量最大达到12.23%。锆离子注入后在基体中形成了Zr²Cu、ZrO₂和Cu₂O等强化相，导致基体硬度显著提升。注入剂量为1×10¹⁸Zr+/cm²样品的硬度达到4.51GPa，是基体的4.3倍。随离子注入剂量的增大，电导率呈现下降趋势，但是电导率最大降幅不超过8%。锆离子注入后硬度的提高是耐磨性提高的主要因素，且基体表层在低摩擦系数段的持续时间随注入剂量的增加而延长；磨损量随着载荷和滑动速度的增加而增加，且磨损量随注入剂量的增加而降低。