高能/高功率激光光元件在不同应用环境中会受到不同程度的污染,主要包括有机分子污染和颗粒污染,这些污染将会导致光学元件性能稳定性退化并缩短寿命的缩短。高能/高功率激光光学元件表面普遍会镀有低吸收强光膜,以保证元件的性能。作为高能/高功率激光系统中薄弱的环节,低吸收强光膜很大程度上限制了激光系统的性能稳定性和使用寿命。本文通过分析不同应用环境下低吸收强光膜表面形成污染的机理,根据实际使用条件搭建应用环境模拟装置进行模拟试验,分别研究了真空环境污染和实验室环境污染对低吸收强光膜性能稳定性的影响。首先分析了强激光系统中威胁镀膜光学元件的各类污染物,包括污染物的种类、来源、传播方式和镀膜元件吸附污染物的过程。并介绍了污染物对镀膜元件性能的影响,详细介绍和对比了连续激光系统和脉冲激光系统中元件表面污染引起的元件损伤机理,揭示了连续激光系统中污染引起镀膜光学元件损伤的本质原因。为研究真空环境对光学薄膜的影响,我们将离子辅助沉积法制备的1064 nm强光反射膜样品放置于真空度优于1×10^-5 Pa的不锈钢真空室,模拟真空环境下材料释气导致的光学元件表面污染。实验观测样品的吸收率和反射率随放置时间的变化,结合真空室质谱仪监测结果,对比溶剂擦拭前后样品吸收率、反射率变化和样品表面形貌的差异,尝试说明真空环境污染引起的1064 nm强光反射膜性能退化机制。研究表明样品表面的污染层厚度随时间的增加和操作过程中的人为因素是导致样品光学性能持续下降的主要原因。使用酒精乙醚混合溶液擦拭受污染的样品可使其光学性能完全恢复,说明污染物没有影响到样品的膜层结构和光学常数。为研究洁净实验室环境对光学薄膜的影响,我们将镀膜样品放置于洁净实验室中,让环境污染物自由落在样品表面对其造成污染,以此模拟大气环境导致的样品污染。首先利用粒子计数器确定洁净实验室的洁净度值,然后使用基于光腔衰荡技术的反射率二维扫描系统对样品反射率进行定期测量,以此来监测实验过程中样品反射率的变化。依据样品1064 nm反射率二维分布图的演变,研究镀膜元件在一定洁净度大气环境下遭受污染和光学性能退化的规律。研究表明在洁净度为M3级的洁净实验室中,镀膜光学元件的光学性能可以得到长时间的保持（本实验中样品表面反射率分布可保持72小时无明显变化）,但是如果实验室内出现长时间的人员活动情况则会加剧镀膜样品表面的污染,并最终影响镀膜元件的光学性能。