基于光栅微结构的顶发射OLED器件

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我们利用Quanta-Ray-150纳秒激光器产生的紫外激光,在气浮减振光学平台上的搭建了双光束干涉光路和三光束干涉光路。我们采用氯仿作为SU-8光刻胶的的稀释剂使用8000rpm的旋涂速度,制备了厚度100nm左右表面平滑的薄膜。同时我们使用丙酮作为稀释剂对NOA-63光刻胶进行稀释,采用8000rpm的旋涂速度,制备了100nm左右的表面平滑的薄膜。之后我们利用双光束干涉单曝光和双曝光两种方法,在SU-8和NOA-63这两种负性光刻胶上制备一维光栅、和二维光栅结构。我们通过在顶发射有机电致发光器件的衬底引入周期性光栅结构,我们制备了结构为:glass/grating/Alq3(55nm)/Ag(50nm)和glass/grating/Alq3:DCJTB (50nm)/Ag(40nm)/NPB(xnm)的两种光致发光器件,通过改变光栅周期和NPB的厚度,调节器件光谱中表面等离子体峰值与器件的发光光谱重合,结果得到绿光发光器件合适的光栅周期为500nm,红光发光器件合适的光栅周期为370nm,NPB的厚度为200nm。我们制备了结构为Si/grating(500nm)/Ag(80nm)/MoO3(4nm)/NPB(55nm) /Alq3(55nm)/LiF(1nm)/Al(2nm)/Ag(50nm)和Si/Ag(80nm)/MoO3(4nm)/NPB(55nm) /Alq3(55nm)/LiF(1nm)/Al(2nm)/Ag(50nm)的绿光电致发光器件,对其亮度进行可对比,得到平板器件的最大亮度为13000cd/m2,带有光栅结构的器件最大亮度可达15000cd/m2。同时带有光栅的器件效率平均提高了38.77%。我们在阴极上生长耦合输出层,制备了结构为Si/Ag(70nm)/MoO3(5nm)/ NPB(70nm)/Alq3:DCJTB(8%)(50nm) /Alq3(25nm)/LiF(1nm)/Ca(2nm)/Ag(20nm), Si/Ag(70nm)/MoO3(5nm)/NPB(70nm)/Alq3:DCJTB(8%)(50nm)/Alq3(25nm)/LiF (1nm)/Ca(2nm)/Ag(20nm)/NPB(200nm)两种红光顶发射器件,通过生长盖层NPB使得器件的效率平均增长了39.44%。同时我们又制备了结构为Si/Ag(70nm)/ MoO3/(5nm)/NPB(70nm)/Alq3:DCJTB(8%)(50nm)/Alq3(25nm)/LiF(1nm)/Ca(2nm) /Ag(40nm)/NPB(200nm),Si/grating(370nm)/Ag(70nm)/MoO3(5nm)/NPB(70nm)/ Alq3:DCJTB(8%)(50nm)/Alq3(25nm)/LiF(1nm)/Ca(2nm)/Ag(40nm)/NPB(200nm)红光顶发射器件,带有光栅器件通过表面等离子体的耦合使得红光器件的效率平均增长了79%。
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