掺镧ITO纳米粉体、薄膜制备与光电性能研究

来源 :西安工业学院西安工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zsmslife

【摘要】

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该文采用两种方法分别制备掺镧和未掺镧ITO薄膜,一种方法是采用溶胶——凝胶法浸涂镀膜;另一种方法采用共沉淀法合成纳米ITO粉末,压制并烧结成靶材后,真空热蒸发镀膜.采用DSC

【作者】

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余萍

【机构】

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西安工业大学

【出处】

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西安工业学院西安工业大学

【发表日期】

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2003年期

【关键词】

：

溶胶-凝胶法共沉淀法铟锡氧化物掺镧ITO薄膜方阻可见光透过率

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该文采用两种方法分别制备掺镧和未掺镧ITO薄膜,一种方法是采用溶胶——凝胶法浸涂镀膜;另一种方法采用共沉淀法合成纳米ITO粉末,压制并烧结成靶材后,真空热蒸发镀膜.采用DSC、 XRD、TEM和SEM研究薄膜微观结构,采用台阶仪测量薄膜厚度,四探针电阻仪测量方阻,分光光度计测量可见光透过率.重点讨论了掺镧对ITO薄膜微观结构和光电性能的影响.

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