超表面是一种厚度小于波长的平面周期结构阵列,可通过对电磁波振幅、相位、极化方式等多个自由度的调控来实现吸波表面、超透镜等多种功能,在国防、通信、医疗等多个领域有着重要的作用。作为超表面的重要组成部分——金属超表面因其局域化的表面等离子体共振在光学和光电子学领域引起了学者的广泛关注。而超表面的发展离不开各种微纳加工技术的进步,其中最简单的方法之一是基于惰性基底上薄膜的去润湿。近二十年来,对去润湿法制备微纳结构超表面的研究层出不穷,但是去润湿法得到的微纳结构尺寸大小大部分集中在纳米级,且对其位置分布的精确控制难度较大。本论文将模板化基底和Ge薄膜的分形晶化现象相结合,基于去润湿法工艺制备了Au微纳结构超表面,实现对微纳结构参数的有效控制,同时探究了其光学性能。包含主要工作如下:1.通过管式炉恒温退火对影响惰性基底（Si和SiO₂）上的Au薄膜去润湿过程的因素进行了研究讨论,包括基底种类、基底倾斜角度、薄膜厚度、退火温度和退火时间,同时对去润湿所形成的Au微纳颗粒阵列的光学性质进行测试和仿真验证。2.通过对不同凹坑深度的圆形凹坑阵列上50 nm Au薄膜的去润湿现象开展研究,获得了基片上周期排布的Au纳米颗粒,说明模板化基底可以通过在薄膜的初始曲率上产生周期性的变化来控制薄膜的固态去润湿,去润湿的起始位置和表面扩散通量的方向得到精确地控制,从而使整个去润湿过程变得更加均匀。3.通过对Au/Ge双层薄膜的去润湿现象的研究,讨论了去润湿过程中Ge薄膜的分形晶化现象对Au薄膜去润湿的影响,证实了Ge薄膜的加入有助于形成大尺寸Au纳米颗粒。4.将模板化基底和Ge薄膜的分形晶化现象相结合,对模板化基底上Au/Ge双层薄膜的去润湿过程进行研究讨论。在SiO₂基底上通过光刻和刻蚀制造出了深度为800 nm的圆形凹坑阵列,并沉积20 nm Ge薄膜和50 nm Au薄膜,900℃下退火3h后,得到了周期排布在台面中心处的大尺寸Au颗粒,以及分布在凹坑内部的小尺寸颗粒。经测试,该样品在531 nm处有一个显著的LSPR峰,并在2300 nm波长处观察到大尺寸Au颗粒的散射峰。