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本文利用磁控溅射技术制备了在光刻胶上的多层的Al薄膜和CuO薄膜,研究了铝-氧化铜-铝-氧化铜-铝可反应性膜的制备与化学反应性能。用扫描电子显微镜(SEM)、三维视频显微镜和X-射线衍射仪(XRD)对薄膜的表面形貌、成分结构和晶相结构进行了表征。结果表明:在光刻胶上的薄膜最佳制备工艺条件与在玻璃上的薄膜最佳工艺不同,在光刻胶上沉积CuO薄膜,CuO薄膜的成长质量比在玻璃片上在最佳制备工艺条件下制备单层CuO薄膜的成长质量差,同样在光刻胶上沉积Al薄膜,Al薄膜的成长质量比在玻璃片上在最佳制备工艺条件