镍和氧化镍纳米晶的控制生长及应用研究

来源 :上海交通大学 | 被引量 : 2次 | 上传用户:zengguiyeah3
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传感器技术是当今世界发展最为快速的高新技术之一,也是现代工程技术进步的一个重要标志;电导型纳米传感器现已在航空航天、军事国防、信息科技、矿山机械、食品安全、家庭安全、生物监测、农业监视、医学、环境等诸多领域获得广泛的应用和发展。NiO拥有稳定的理化性能,被认为是构筑微型传感器的理想候选材料之一,其最为重要的应用就是电导型气敏传感器。本论文主要研究了Ni和NiO纳米晶(纳米线、树枝晶、纳米锥)的可控生长,并将NiO纳米线和Zn掺杂的NiO树枝晶应用于微型气敏传感器,利用NiO的纳米效应来提高气敏传感器对气体分子的快速吸附,利用Zn掺杂来改善传感器对气体分子的快速解吸附特性;同时,通过去除Ni纳米锥表面的气体分子极大地改善了其场电子发射性能,为新型场电子发射器的开发提供了新的思路。具体研究进展如下:(1)通过磁场辅助肼还原法制得了高纯的Ni纳米线,在空气中380℃以下具有很高的化学稳定性,矫顽力Hc(257.6Oe)高于体相材料;同时,实验发现通过改变溶液中的Ni2+离子浓度、反应温度、NaOH浓度、溶剂种类、外加磁场强度、反应时间、N2H4·H2O浓度可以很好地控制Ni纳米线的表面形貌、微结构、长径比;根据大量的实验得出了Ni纳米线的生长机制,发现通过外加磁场和反应参数能够很好地将Ni晶核组装成不同形貌的纳米结构;此外,我们开发了批量Ni纳米线的制备装置。(2)通过高温氧化法将磁场组装的超长Ni纳米线阵列转化为NiO纳米线阵列,发现氧化温度越低,NiO纳米线的平均晶粒尺寸越小,带隙值越大;根据不同温度和时间的高温氧化实验提出了NiO纳米线的形成机理;随后利用lift-off工艺将NiO纳米线阵列组装成气敏传感器,发现其对NH3均具有很好的响应、恢复性能,优异的重复性和选择性;此外,我们还发现平均晶粒尺寸越小的NiO纳米线传感器灵敏度越大,这是因为其表面活性点较多,能够吸附更多的NH3分子。(3)通过电解法制得了分层、对称、高度有序的Ni树枝晶,研究发现Ni树枝晶主要由主干、第二分支、第三分支组成,第二分支与主干之间的角度约为70o,第三分支与第二分支之间的角度约为60o,树枝晶的主干和分支的直径分别为280nm和210nm,主干和分支的平均长度分别为10μm和1.5μm;根据一系列不同时间反应产物的形貌,分析了Ni树枝晶的生长过程,提出了Ni树枝晶可能的生长机制;实验还得出了电解法制备Ni树枝晶的最佳工艺参数。(4)通过电解的途径和随后的高温氧化法制得了Zn掺杂的NiO树枝晶,SEM测试得知树枝晶的主干长度在6-10μm,分支长度在1-3μm;HRTEM分析显示,Zn掺入之后,NiO晶格条纹有加宽的趋势,这是因为较大的Zn原子替代了NiO晶格中较小的Ni原子所致;同时发现Zn在NiO树枝晶中的溶解极限低于7%;随后将掺杂的树枝晶组装成微传感器并测试其对NH3的气敏性能,发现Zn的掺入致使传感器的响应速度提高了5-8倍,恢复速度提高了30-50倍;最后探讨了Zn掺杂NiO树枝晶传感器的气敏机理。(5)通过水热法在Ni箔基底上可控生长了Ni纳米锥阵列,锥底直径范围为50-450nm,锥的高度范围为50-200nm,锥的顶部直径在10nm左右,锥的顶角约40o;同时探讨了Ni纳米锥的生长机制以及反应参数对锥体结构的影响;随后我们用Ni纳米锥作为阴极,镀有ITO玻璃作为阳极,测试了其场电子发射性能,发现真空环境下的残余气体分子对Ni纳米锥场电子发射性能有较大的影响,针对这种问题我们提出了两种改善Ni纳米锥场电子发射性能的方案。
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