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利用自主研制的多功能磁控溅射沉积方法沉积不同结构的DLC薄膜，通过对薄膜元素的掺杂和过渡层设计，制备不同结构和功能的DLC薄膜，考察了掺杂以及过渡层结构对DLC薄膜性能的影响。（1）通过在硅基底沉积含有Si过渡层的DLC薄膜，并且利用磁控溅射制备表面低Si含量的DLC薄膜。这种结构设计的DLC薄膜不仅提高了薄膜与基地的结合力，而且增加了薄膜中sp~3含量，提高薄膜的硬度，而且还有效的降低了DLC薄膜表面过量Si含量所引起的缺陷。并通过改变沉积负偏压，制备不同性能Si过渡层DLC薄膜，结果表明