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该论文主要包括以下四方面关于多孔硅及其微腔的研究工作:一、首次把有效折射率方法和菲涅耳公式结合起来研究多孔硅微腔的发光特性与微腔结构参数和中心层发光峰两者的关系,为该文的主要工作--多孔硅微腔的实验设计与结果讨论提供了可靠依据.二、在国际上首次用脉冲电化学腐蚀取代常规直流腐蚀来制备第Ⅰ型多孔硅微腔,获得了层结构平整和光发射得到改进的多孔硅微腔.三?结合分子束外延技术和电化学腐蚀方法在国际上首次得到了第Ⅱ型多孔硅微腔.四、报道了把多孔硅(PS)放在稀(NH<,4>)<,2>/C<,2>H<,5>OH溶液里进行短时间浸泡之后又在紫外光(UVL)下进行辐照激发的钝化新方法,获得了发光强度增加和稳定性得到提高的多孔硅样品.