双工件台系统是光刻机的核心子系统，包括两个工件台和一个掩模台。处于测量区的工件台要完成硅片的上下片、对准、调平调焦；处于曝光侧的工件台要在掩模台、照明系统与狭缝单元的配合下完成硅片的曝光扫描。工件台要在换台系统下实现两个工件台功能互换。它的控制系统采取上下位机的模式，下位机为基于VME总线工控机，运行VxWorks嵌入式实时操作系统，控制整套系统的执行；上位机运行人机控制界面，向下位机发送控制指令，进行数据通信，本文是围绕下位机系统展开的。首先，对双工件台的执行流程进行了详细的规划，即一个硅片从上片到光刻完毕的全过程，包括在测量区和曝光区的工件台要依次完成的动作，工件台如何定位到换台区，换台方案，工件台、掩模台、照明系统与狭缝单元如何同步实现硅片的曝光扫描等。其次，由于下位机采用嵌入式VxWorks实时操作系统，对它的内核结构进行了分析，提出程序编写方法。它的集成开发环境为Tornado2.2，对它的使用方法进行介绍，并建立了整个系统的开发调试环境。双工件台系统是一个对实时性和可靠性要求较高的系统，结合操作系统的特点，为满足系统要求，提出了相应的程序设计方法。再次，由于上位机要不断与下位机进行数据交互，要建立网络通信。为了增强通信的可靠性，制订了通信协议。将数据封装成帧，使上下位机都能解析并且提取出有用数据。为了能及时接受上位机所有的指令，创建了缓冲队列，将所有命令缓存。为了验证通信的实时性与可靠性，设计了一个实验进行验证。最后，在前面的基础上，进行了整个下位机软件的详细设计。包括软件整体架构、要生成的任务，每个任务的功能，任务之间的通信以及程序执行流程图。通过对单轴实验台的调试，验证了软件设计的正确性。