掺杂LiNbO3薄膜的制备及磁性研究

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【摘要】

：

多铁材料在信息储存、自旋电子器件,磁传感器以及电容、电感一体化器件等方面都显示出了潜在的应用前景,而用磁性元素对LiNbO_3薄膜的掺杂有望获得铁电铁磁性共存,将形成一种新型多铁材料体系。采用射频磁控溅射的方法,分别在Si(100)和Si(111)衬底上制备了LiNbO_3/SiO_2/Si多层结构薄膜,并采用X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外吸收光谱仪(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)

【作者】

：

肖庆

【机构】

：

天津理工大学

【发表日期】

：

2011年01期

【关键词】

：

射频磁控溅射 SiO2过渡层掺杂LiNbO3薄膜室温铁磁性磁交换机制

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