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随着磁盘面记录密度的不断提高,要求磁记录介质具有很高的矫顽力,而要在高矫顽力上记录信息,要求记录磁头材料必须具有高饱和磁感应强度。Fe-Co合金因具有高饱和磁化强度,而使其成为很有竞争优势的材料,但Fe-Co合金薄膜一般表现大的矫顽力,给应用带来很大困难。本文采用对靶磁控溅射的方法,在真空环境下制备了Fe-Co系列薄膜,并利用VSM、SPM和XRD等设备对材料的磁特性和微结构进行了测试、分析。讨论了不同的靶成分、热处理温度及薄膜厚度对薄膜微结构和磁特性的影响。取得的主要研究结果如下: