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目的:在正畸治疗中,高角病例的垂直向控制非常重要。高角患者由于其咀嚼肌肌力小,在正畸治疗过程中上下颌磨牙容易伸长,容易出现下颌骨的顺时针旋转,前下面高的增大。因此,在高角病例的治疗过程中,应注意控制磨牙高度,防止其伸长甚至压低磨牙,以期获得良好矫治效果。防止磨牙伸长或压低磨牙的方法很多,其具体操作、复杂程度和效果不一而足。本研究通过对减数四颗第一前磨牙的高角患者治疗前后的头颅侧位片进行测量分析,研究一种改良的横腭弓-垂直支持矫治器(vertical holding appliance,VHA)对高角患者垂直向控制的效果。方法:由河北医科大学口腔医院正畸科门诊选取已经治疗完成且病历完整的高角拔牙患者40例,要求下颌平面角(MP-SN)≥40°,后面高与前面高比值(S-Go/N-Me)<62%,骨性Ⅰ类或Ⅱ类错牙合(ANB>0°),前牙正常覆牙合或深覆牙合。这40名患者分为两组,VHA组(共20例,男7例,女13例,年龄范围11-16岁,平均年龄13.35±1.44岁)在治疗过程中仅使用VHA进行垂直向控制;对照组(共20例,男6例,女14例,年龄范围11-16岁,平均年龄13.14±1.35岁)治疗过程中未采取垂直向控制措施。VHA的制作方法如下:首先使用直径为1.2mm不锈钢丝弯制一个横腭杆,U型曲距腭盖顶约5mm,在双侧第一磨牙上装配带环,横腭杆两端与带环焊接;然后在U型曲处铺装约五角硬币大小的自凝树脂托,厚度约2mm,自凝树脂托的位置约位于双侧第一磨牙之间。选取每位患者治疗前后的头颅侧位片,使用Winceph8.06软件对头颅侧位片进行定点及测量,所有测量项目均测量三次取平均值。本研究的角度测量项目有:下颌平面角(MP-SN),下颌平面与眼耳平面夹角(MP-FH),下颌平面与腭平面夹角(MP-PP),腭平面与前颅底平面夹角(PP-SN),Y轴角(S-Gn/FH角)。本研究的线距及比值测量项目有:上颌第一磨牙近中颊尖的最高点至腭平面的垂直距离(U6-PP),下颌第一磨牙近中颊尖的最高点至下颌平面的垂直距离(L6-MP),上颌中切牙切缘至腭平面垂直距离(U1-PP),下颌中切牙切缘至下颌平面垂直距离(L1-MP)。以眼耳平面为基准平面,过鼻根点(N),前鼻棘点(ANS),颏下点(Me),蝶鞍点(S),下颌角点(Go)做与眼耳平面(FH平面)平行的直线,测量各平行线之间的距离形成以下线距测量项目:全面高(N-Me):鼻根点与颏下点间的垂直距离;前上面高(N-ANS):鼻根点与前鼻棘点间的垂直距离;前下面高(ANS-Me):前鼻棘点与颏下点间的垂直距离;后面高(S-Go):蝶鞍点与下颌角点间的垂直距离;前下面高与全面高之比:ANS-Me/N-Me×100%;后面高与全面高之比:S-Go/N-Me×100%。采用SPSS13.0软件对各项数据进行正态性检验,若服从正态则采用均数±标准差的形式进行描述,两组组内治疗前后相应测量项目的比较采用配对t检验,两组间治疗前后相应测量项目差值的比较采用独立样本t检验。若不服从正态分布则采用中位数(M)和四分位数间距(Q)进行描述,采用Wilcoxon秩和检验进行统计分析。检验水准α=0.05。结果:1 VHA组治疗前后测量项目比较VHA组L6-MP,S-Go,N-Me,ANS-Me治疗后较治疗前分别增大了1.60±0.51mm,1.33±0.91mm,1.91±1.32mm,1.36±0.70mm,差异有统计学意义(P<0.05)。其余测量项目治疗前后差异均无统计学意义(P>0.05)。2对照组治疗前后测量项目比较对照组MP-SN,Y-axis,U1-PP,U6-PP,L6-MP治疗后较治疗前分别增大了1.03±0.56°,1.72±0.42°,0.91±0.91mm,2.03±1.23mm,3.06±1.61mm,差异有统计学意义(P<0.05)。S-Go,N-ANS,N-Me,ANS-Me,ANS-Me/N-Me治疗后较治疗前分别增大了1.42±0.91mm,1.27±0.77mm,5.34±2.64mm,4.07±2.28mm,0.96%±0.79%。而S-Go/N-Me治疗后较治疗前减小了1.69%±1.59%,差异有统计学意义(P<0.05)。其余测量项目治疗前后差异均无统计学意义(P>0.05)。3两组病例治疗前后各测量项目差值的比较对两组治疗前后差值进行两独立样本t检验可以发现,VHA组MP-SN,Y-axis,U6-PP,L6-MP,N-Me,ANS-Me,ANS-Me/N-Me较对照组小,S-Go/N-Me较对照组大,差异有统计学意义(P<0.05)。其余测量项目治疗前后的差值VHA组与对照组相比差异均无统计学意义(P>0.05)。结论:1高角患者在进行减数正畸治疗时如果不进行垂直向控制,会出现上下颌磨牙的伸长,下颌平面角增大及前下面高的增加。2垂直支持矫治器(VHA)通过对上颌磨牙施加压入力以及增加上颌磨牙支抗,减少Ⅱ类牵引的使用,控制了上下颌磨牙的高度,因此有效地维持了下颌平面角及前下面高。