激光直写光刻属于无掩模光刻的一种，是当今制作衍射光学元件的关键技术之一。为进一步促进激光直写光刻技术的发展，提高衍射光学元件的制作质量，本文针对激光直写光刻质量控制的理论与工艺进行了研究。　　论文主要通过以下几个方面进行质量控制:首先，通过动态变速滴胶的方法解决了涂胶过程中胶层分布不均匀的问题，实验得胶膜平整度达到1.04％，比改进前提高60％多;其次，在曝光过程中，将激光器出射的高斯光束经透镜组整形为平顶高斯光束，提高光刻线条槽型的陡直度;最后，显影装置的喷头进行改进，分离显影液与去离子水通道同时增加输出端口，提高了显影的均匀性和效率。　　实验制作4台阶位相的大浮雕深度结构，相对于不经质量控制制作的结构在制作精度上有很大的提高，接近于设计值。激光直写光刻质量控制为激光直写的进一步发展起到了极大的促进作用。