纳米光子结构在光电子技术等领域具有重要的应用前景而得到了广泛关注。将等离激元纳米光子结构集成到光纤端面上是拓展其功能、实现器件集成化、获得新型光纤传感器的有效途径。等离激元纳米光子结构的高质量、低成本、大面积制备及其在光纤端面的转移技术对于纳米光子学研究和应用具有重要意义。本论文研究工作主要包括以下方面:(1)提出了柔性转移技术实现光纤端面等离激元纳米光子结构的简便、高效、高质量制备方法。首先在沉积有ITO薄膜的平板衬底上制备由金纳米线光栅构成的大面积等离激元纳米光子结构。这为降低制备难度、提高制备质量和制备成功率以及结构优化提供的很大空间。然后,在金纳米线光栅结构上表面涂布一层PMMA薄膜,作为缓冲连接层。再将样品整体置入盐酸中,将ITO层腐蚀去除,实现PMMA薄膜连接的光栅结构从衬底上剥离。提取剥离后的光栅结构,经过清洗后将其转移至光纤端面。最后,对转移后的光纤端面在500℃下进行退火处理,实现结构的固化并完成制备。这是一种高质量、高重复性、高成功率、低成本的光纤端面转印方法,为折射率传感器和超快光开关器件的发展提供了新的途径。(2)利用波导耦合的金纳米线光栅中的光学共振模式间叠加效应,实现了一种超快光学开关器件。利用干涉光刻、金纳米颗粒胶体溶液及退火工艺成功制备了调制深度为220 nm的大厚度金纳米线光栅。发现了其中波导共振模式和分布反馈式微腔(DFB)共振模式间的共同作用机制,实现了消光率达96%的光谱学调制。利用此效应实现了一种高效超快光学开关,其光谱调制深度达16.7%、带宽小于15 nm、响应速度为290 fs、信号对比度大于95%。