“日盲”紫外波段由于被大气臭氧层吸收形成波谱盲区，在该盲区相关信号抗干扰性好、保密性好，因此成为紫外告警、紫外成像、紫外通讯等的重要应用波谱区，“日盲”紫外滤光片则是相关应用系统的关键部件，为了提高信噪比，有必要研究深截止型日盲紫外干涉滤光片。本课题是在“973”计划“宽光谱信号无线传输理论与方法研究”课题子课题“光学系统噪声抑制与接收信噪比优化方法研究”支持下，进行日盲紫外滤光片的研究工作。本文主要研究了深截止型日盲紫外干涉滤光片的膜系设计、材料特性及镀膜工艺等内容。1、运用薄膜特征矩阵理论设计了一种日盲紫外波段250nm-260nm平均透过率高达83%，截止波段280nm-600nm的截止深度达OD4的干涉滤光片，并且从膜系灵敏度、膜层敏感度、膜层监控图三方面进行可行性分析评价。2、基于膜系设计及材料匹配特性，选取紫外熔融石英JGS1作为基底，高低折射率材料分别为HfO2和SiO2，并分别采用光度法和基于逐点优化法的多层模型椭圆测量法准确测量了基底和膜材料在200nm-900nm波段的光学常数随波长的变化规律。3、在ZZSX-850型镀膜机中，采用离子辅助沉积电子束蒸发的方式，运用正交法结合包络线法研究获得制备紫外薄膜的最佳工艺参数为：本底真空为3×e-3Pa，沉积真空度为2×e-2Pa，温度250℃，考夫曼离子源的充氧量6sccm，离子束流为30mA，HfO2和SiO2的沉积速率均为0.5nm/s。在此最佳工艺条件下，HfO2和SiO2的Tooling因子分别为78.4%和76.1%，在此基础上镀制了250nm-260nm高透的紫外滤光片，为后续的滤光片的镀制进行了有益的探索。