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MnZn铁氧体材料具有高的饱和磁感应强度、高的起始磁导率和低的功率损耗等特点,成为目前产量最大、应用最广的一类的软磁材料。因为具备高的电阻率、高的机械强度、稳定的化学性能和高的共振频率,MnZn铁氧体材料在高频领域有良好的应用前景。鉴于当前电子元器件向小型化、集成化、高频化方向发展,MnZn铁氧体薄膜已成为研究重点。根据上述发展趋势,本论文采用射频磁控溅射法制备MnZn铁氧体薄膜,基于薄膜性能表征结果,对镀膜参数、退火工艺以及缓冲层的影响等进行研究。首先,论文从靶材制备工艺着手,研究了M