反蛋白石结构光子晶体内二维缺陷的引入及光子晶体修饰光纤的制备方法研究

来源 :南京师范大学 | 被引量 : 1次 | 上传用户:mrchenbx
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随着信息技术的发展,光子驱动的功能材料及器件将在光存储、光计算和光信息技术学领域得到广泛应用。显然,与光通信、信息显示相关的光子晶体具有非常广阔的应用前景。在光子晶体中引入缺陷,缺陷引入破坏了介质分布周期性的结构,形成光子晶体缺陷带。根据引入的缺陷结构不同,可分为点缺陷、线缺陷、面缺陷等。光子晶体的点缺陷能够构建固有频率为点缺陷本征频率的高品质因子谐振腔,称为光子晶体微腔。光子晶体线缺陷被称为光子晶体波导。在光子晶体引入缺陷结构能够实现一定的功能器件。本文主要工作是采用溶胶凝胶协同自组装与光刻相结合的方法,在光子晶体反蛋白石结构中引入二维缺陷,通过溶胶凝胶协同自组装方法在硅片上垂直沉积胶体晶体复合薄膜,把BP212正性光刻胶均匀旋涂在复合薄膜上,通过曝光、显影等光刻工艺,把掩膜版图案复制在复合薄膜上,用此样品再次垂直沉积一层复合薄膜,使图案被复合薄膜覆盖。最后去除胶体微球与光刻胶图案,从而在反蛋白石结构中引入缺陷。通过先在硅片上光刻图案,再沉积胶体晶体复合薄膜覆盖光刻图案,最后烧结去除光刻胶与微球,形成在硅片与反蛋白薄膜接触面上引入缺陷。用扫描电子显微镜对样品进行表征。分析了光刻胶图案对胶体微球排列的影响。此外,本文还介绍了在光纤端面制备反蛋白薄膜结构的工艺参数,形成“反蛋白-光纤微结构器件”,最后该结构用扫描电子显微镜进行了表征,并对该结构进行了光谱测试。
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