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本论文全面的评述了电致变色材料的研究发展过程，对氧化钨、氧化镍等薄膜材料的电致变色机理作了系统的总结，并对电致变色材料的制备方法与特性，电致变色智能窗器件的结构和性能做了详尽的描述。 本论文利用电子束蒸发方法制备氧化钨、氧化镍薄膜的基础上，研究了热处理工艺对于薄膜电致变色性能的影响。对经过不同热处理温度和不同热处理持续时间得到的薄膜样品的着色／褪色可见光范围内透射光谱的比较，计算薄膜动态光密度变化量的大小，测试薄膜着色／褪色循环伏-安关系以及薄膜着色／褪色响应时间的快慢，寻求到薄膜呈现最佳电致变色性能时所对应的制备参数与热处理参数。在研究薄膜所呈现出的不同电致变色性能的同时，揭示了热处理对薄膜微观结构的影响，分析了导致非晶态与不同结晶度情况下氧化钨薄膜电致变色性能差异的原因，以及不同结晶度情况时氧化镍薄膜电致变色性能变化的规律和微观机理。 利用呈现最佳电致变色性能的薄膜封装出半固态的智能窗器件模型，对于半固态模型着色／褪色可见光范围内透射光谱、动态光密度变化量、着色／褪色循环伏-安关系以及薄膜电致变色响应时间作了具体的研究，得到了电致变色性能理想的器件模型，其着色态与褪色态颜色反差明显，在600nm光波长处，器件着色态与褪色态透射率值相差近50％，光密度变化量幅度较大（0.25-0.85），在外加电压为±2V情况时，半固态智能窗器件的着色过程与褪色过程所需时间分别为2秒和1.5秒，着色与褪色所需响应时间迅速。 并在此基础上继续研究了Glass／ITO／WO3／LiNbO3／NiOx／Au结构的全固态智能窗器件模型，对于各薄膜层厚度对于器件电致变色性能的影响做了初步的研究，测试了器件可见光范围内的着色／褪色透射光谱，光密度变化量在0.2～0.5范围内，表明器件具有良好的电致变色性能。