近年来,OLED显示器在手机、电视中的应用越来越普遍,其中柔性OLED显示器由于其轻薄、可弯曲的特性受到人们的广泛研究。自OLED第一次商品化以来,OLED器件的材料性能和工作寿命取得了突飞猛进的发展。由于OLED材料对水分和氧气极度敏感,暴露于空气之中会使得OLED器件老化严重,因此封装成为制造工艺中至关重要的一步。目前固定曲面的柔性OLED显示器已经有商业产品,而真正意义上的可折叠OLED显示器仍然停留在初期研究阶段。提高OLED显示器的柔性尤为重要,其主要研究方向有:柔性基底的选择与优化,TFT阵列背板的设计与其耐弯折性的提高,薄膜封装(TFE)技术的开发,高弯折性模组材料如偏光片等的开发。本文选取薄膜封装(TFE)技术作为研究对象,以AMOLED显示器作为载体,对TFE工艺及结构进行优化,主要内容包括以下两个方面:首先,本论文研究了薄膜封装结构中单层Al2O3、PMMA、SiNx薄膜的特性。其中A1203由PEALD方法制备,PMMA由IJP方法制备,SiNx由PECVD方法制备。研究结果表明:Ⅰ)在优化PEALD时,TMA脉冲时间、RF脉冲时间、RF功率和循环数对Al2O3薄膜的厚度、折射率、表面形貌和应力有着明显的影响,TMA脉冲时间为150ms,RF脉冲时间为3s,RF功率为100W时薄膜的折射率为1.659,在玻璃上的光学透过率为98.40%,表面形貌最平整。Al2O3薄膜厚度与循环数成正比;膜厚在33nm以上时,平均应力较低,且在203nm时应力达到最低值160Mpa。Ⅱ)在使用IJP制备PMMA薄膜时,主要考虑不同厚度的均一性、光学透过率和表面形貌,结果表明:有机层厚度在8um时,PMMA薄膜的光学透过率较高,在550nm的透过率达到90.6%,薄膜表面形貌最为平整,均一性为1.06%。Ⅲ)在使用PECVD方法制备SiNx薄膜时,射频功率、SiH4和NH3流量对SiNx薄膜的膜厚、折射率、均一性有着明显的影响,在功率为600W,SiH4流量为360sccm,NH3流量为318sccm时制备的氮化硅薄膜整体性能最佳:折射率1.836,膜厚1218nm,均一性 3.85%。其次,依据上述研究结果设计了薄膜封装的叠层复合结构,并且对其性能进行了表征和对比。选取SiNx/PMMA/SiNx结构作为对比,设计了两种不同的叠层:Al2O3/SiNx/PMMA/SiNx 和 SiNx/PMMA/SiNx/Al2O3 并运用到 AMOLED 显示器上,进行60℃/90%RH高温高湿存储老化实验,研究其封装性能及可弯折性能。研究结果表明,三种薄膜结构在550nm处的光学透过率均在90%以上,Al2O3/SiNx/PMMA/SiNx的结构的光学透过率虽然稍低,但封装性能和弯折可靠性相对最好,在60℃/90%RH高温高湿存储360h内未出现失效,在经过半径为7mm的弯折后,在60℃/90%RH高温高湿存储240h内未出现失效,为薄膜封装性能的优化提供了重要的参考。