【摘 要】
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本课题采用虚拟仪器的设计思想,以图形化开发平台LabVIEW为技术核心,开发磁控溅射实时监控系统,实现对磁控溅射过程中各项重要参数的采集及后续处理,建立了完备的历史数据库,
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本课题采用虚拟仪器的设计思想,以图形化开发平台LabVIEW为技术核心,开发磁控溅射实时监控系统,实现对磁控溅射过程中各项重要参数的采集及后续处理,建立了完备的历史数据库,为镀膜工艺的改进以及系统最终实现模糊控制提供原始数据支持。本文主要完成如下工作:1. 通过对磁控溅射离子镀技术的工艺原理和工艺性能的深入分析,提出了实时监控系统的总体设计方案,对系统功能进行了划分,确定了软件的开发环境和开发工具。2. 论述系统软件开发过程中涉及到的关键技术。通过多任务调度策略,提高CPU的工作效率,确保系统中多任务的正常执行;通过采用缓冲技术、高速磁盘流技术、特殊采样技术解决高速数据采集过程中涉及的问题。3. 建立系统数据库,并详细阐述在LabVIEW环境下访问系统数据库接口的方法。4. 对系统的各功能模块进行细化,并实现真空控制、工艺流程监控、工艺趋势显示、工艺方法设置和故障报警处理等功能。
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