在光学薄膜各种参数的测量中，薄膜的厚度是薄膜设计和工艺制备中的关键参数之一，薄膜的电磁性能、光电性能和力学性能等，直接关系到薄膜质量和应用效果。制备出高消光比的偏振分光膜，若没有可靠的测试方法和夹具来获得测试结果，则对于高性能的偏振分光膜的研发和制造都是一种阻碍。21世纪以来，斜沉积技术是获得最大双折射的有效方法，通过对不同入射角度的雕塑薄膜进行光学特性及光学常数的测试，能获得其各向异性与角度的关系，以此能反过来指导和改善功能性雕塑薄膜的制备工艺，这对斜沉积技术的开发和推广有极其重要的意义。本文从理论和实践两方面深入研究了光学薄膜厚度及性能的测试。　　 本文探讨了接触式轮廓仪、白光干涉轮廓仪、分光光度计和椭圆偏振仪这四种常用的高精度测量仪器的原理，比对了薄膜厚度的测量结果，并据此对不同测量方法的测试结果进行了误差分析，评定了不同仪器测量结果是否存在系统误差，归纳了这四种仪器在测量过程中的优缺点。　　 结合实习的工作经验，介绍了偏振分光棱镜的镀制工艺和装配工艺。并设计出与Lambda950分光光度计相匹配的测试工装，便于在生产线上快速准确的测量棱镜偏振分光膜的分光性能。　　 本文最后从雕塑薄膜的偏振特性测试出发，分析了沉积角度与其面内双折射的关系，获得了二氧化钛雕塑薄膜的最佳沉积角度。