流体通道缩小到纳米尺寸时,由于纳米尺寸接近于生物分子的尺寸并且与德拜长度相当,所以出现了许多宏观所没有的现象,如通道内双电层的部分重叠、粘度的增加等,吸引人们展开有关通道性能、流体力学等的基础理论研究。随着纳控芯片通道尺寸的降低,对其制作技术提出了更高的要求。本文首先简单介绍了纳流控的由来以及纳流控的意义和现实生活中的应用价值,其次介绍目前世界流行的纳流控芯片加工技术,有掩模加工法、牺牲层技术等其他加工方法,其中详细介绍了掩模加工的方法的过程。为实验过程打下一定的基础。根据提出的纳流控芯片应用方法,并引出二极管的理论,从而设计出纳流控二极管。本文设计了玻璃基质一维纳流控芯片的制作过程,研究建立了一整套简单易行的玻璃纳流控芯片加工技术。利用紫外光刻和湿法刻蚀的方法制作纳米通道,在优化的条件下,通过控制刻蚀时间来控制纳米通道的深度,方法重现性好。最后通过SEM,表面轮廓仪对通道的形貌进行了详细的表征。接下来依据制备好的纳米通道,设计并制作纳流控芯片背面电极以及整体芯片实验台的搭建过程,其中涉及到使用磁控溅射镀膜设备进行背面铜电极的制备,并得出镀膜厚度与镀膜时间、镀膜功率的关系,考虑制备效果,得出最佳工艺方案,最后介绍了制备的纳流控通道可进行得实验,根据实验要求设计合理的纳流控实验台,最后进行了与外接化学工作站与分析用荧光显微镜等设备的实物连接。本文最后对研究工作进行了总结,说明了制备好的纳流控芯片可以实现的实验效果,以及未来发展的方向的展望,将对纳流控技术的应用起到一定的指导作用。